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產品名稱:
反射式膜厚量測儀
產品型號:
cp-002
產品展商:
OTSUKA大冢光學
折扣價格:
0.00 元
關注指數(shù):564
產品文檔:
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產品特點
非接觸式、不破壞樣品的光干涉式膜厚計。
高精度、高再現(xiàn)性量測紫外到近紅外波長反射率光譜，分析多層薄膜厚度、光學常數(shù)(n:折射率、k:消光系數(shù))。
寬闊的波長量測范圍。(190nm~1100nm)
薄膜到厚膜的膜厚量測范圍。(1nm~250μm)
對應顯微鏡下的微距量測口徑。
反射式膜厚量測儀
的詳細介紹
產品特點
-
非接觸式、不破壞樣品的光干涉式膜厚計。
-
高精度、高再現(xiàn)性量測紫外到近紅外波長反射率光譜，分析多層薄膜厚度、光學常數(shù)(n:折射率、k:消光系數(shù))。
-
寬闊的波長量測范圍。(190nm~1100nm)
-
薄膜到厚膜的膜厚量測范圍。(1nm~250μm)
-
對應顯微鏡下的微距量測口徑。
量測項目
產品規(guī)格
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型號
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標準型
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厚膜專用型
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樣品大小
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*大200mm×200mm×7（厚度）mm
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可測層數(shù)
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*1
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膜厚范圍
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1nm~40μm
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0.8μm~210μm
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1μm~240μm
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80μm~1mm
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波長范圍
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190nm~760nm
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230nm~800nm
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330nm~1100nm
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430nm~970nm
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750nm~850nm
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900nm~1600nm
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1490nm~1590nm
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測試單元
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CCD
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CCD
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CCD
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PDA
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PDA
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InGaAs
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InGaAs
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膜厚精度
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±0.1nm（以NIST認證的標準樣品為依據(jù)）*2
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重復性精度（2.1σ）
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膜厚測試（Si基板上的SiO膜
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100nm未滿：0.1nm*3
100nm以上：0.07%
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反射率測試（Si基板）
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230nm~250nm：0.8%*4
250nm~800nm：0.4% *4
800nm~1050nm：0.8%*4
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測試光斑*5
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φ40μm<×5倍>、φ20μm<×10倍>、φ10μm<×20倍>、φ6.6μm<×30倍>、φ5μm<×40倍>
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對物鏡頭
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反射式對物鏡頭倍數(shù)：×10倍、×20倍、×30倍、×40倍
折射式對物鏡頭（可視）：×5倍、×10倍、×20倍
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測試光源
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D 2(紫外光)、I 2(可見光)、D 2 +I 2(紫外-可見光)
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XYZ stage
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自動stage
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手動stage
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行程
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X：200mm、Y：250mm、Z：10mm
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X：200mm、Y：250mm、Z：10mm
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重復性精度
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2μm<0.5μm>
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-
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驅動分辨率
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1μm<0.1μm>
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-
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尺寸·重量
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481（W）mm×770（H）mm×714（D）mm約96kg
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427（W）mm×770（H）mm×725（D）mm約88kg
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控制單元
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自動stage
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手動stage
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尺寸·重量
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300（W）mm×710（H）mm×450（D）mm約34kg
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300（W）mm×380（H）mm×450（D）mm約18kg
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電源 規(guī)格
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AC100V±10V 750VA
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AC100V±10V 500VA
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軟件
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測試
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手動測試/連續(xù)測試/制圖測試（mapping）/測試與計算同步功能
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解析
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非線性*小二乘法/波峰波谷解析法/FFT解析法/*適化法
基板解析/里面反射補正/各類nk解析模型式
**反射率/解析結果Fitting/折射率n的波長相關性/消光系數(shù)k的波長相關性
3D顯示功能（面內膜厚分布、鳥窺圖、等高線、斷面圖）
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系統(tǒng)維護
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材料文件構建（database管理）、硬件的各種設定
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其它
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樣品對焦的數(shù)值顯示功能、自動對焦功能（自動stage有此功能）、內部反射補正功能
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數(shù)據(jù)處理
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數(shù)據(jù)處理
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臺式電腦、顯示器、打印機
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*1具體請咨詢本公司。
*2以VLSI公司的標準樣品(100nm SiO2/Si)范圍值保證書為依據(jù)。
*3量測VLSI公司的標準樣品(100nm SiO2/Si)同一點位時之重復性。(2.1倍σ)
*4具體參照相關保證書。
*5鏡頭為選配件，具體請咨詢本公司。
應用范圍
■ FPD
?LCD、TFT、OLED(有機EL)
■ 半導體、復合半導體
?矽半導體、半導體雷射、強誘電、介電常數(shù)材料
■ 資料儲存
?DVD、磁頭薄膜、磁性材料
■ 光學材料
?濾光片、抗反射膜
■ 平面顯示器
?液晶顯示器、薄膜電晶體、OLED
■ 薄膜
?AR膜
■ 其它
?建筑用材料
量測范圍
玻璃上的二氧化鈦膜厚、膜質分析